光刻機(jī)是芯片制造九大核心設(shè)備之首,它被譽(yù)為芯片制造業(yè)皇冠上的明珠。它將40多個(gè)學(xué)科的最新成就融合,是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)難度最大、成本最高的設(shè)備。
目前,全球只有只有四家能夠造出光刻機(jī)的企業(yè),那就是荷蘭ASML、日本佳能和尼康和上海微電子四家公司。但是這四家公司的地位不是并列的,能夠研發(fā)出最先進(jìn)的、5nm及3nm以下高端芯片制造不可或缺的EUV光刻機(jī),卻只有荷蘭的ASML公司,單臺(tái)售價(jià)約1.2億美元。而ASML公司的最新款光刻機(jī)將會(huì)在2025年推出,單臺(tái)售價(jià)預(yù)計(jì)超過(guò)3億美元。
曾經(jīng)有人指出,中國(guó)大陸的光刻機(jī)落后國(guó)際十五年。這是因?yàn)橛捎凇锻呱{協(xié)定》的限制,荷蘭公司的EUV光刻機(jī)卻不能供給給中國(guó)用戶所以我國(guó)芯片制造能力止步于14nm,而且在全球100強(qiáng)芯片廠商中,中國(guó)的芯片企業(yè)就占據(jù)42家,但是主要都是生產(chǎn)28nm以上的中低端芯片。
要知道,EUV光刻機(jī)10萬(wàn)多個(gè)關(guān)鍵零部件,一個(gè)零部件沒(méi)有達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),整個(gè)EUV光刻機(jī)就前功盡棄。這是為什么,EUV光刻機(jī)在芯片界能有這樣的地位,它一直是人類(lèi)歷史上最為復(fù)雜、售價(jià)最高的超高精度商用(非軍用)設(shè)備之一。而我國(guó)當(dāng)前欠缺的正是EUV光刻機(jī)生產(chǎn)離不開(kāi)的芯片裝備產(chǎn)業(yè)鏈的綜合實(shí)力。